英特尔透露14A工艺更多信息：能效提升15%，首次采用下代EUV技术

英特尔这几年在制程的英特研发投入上可以说前所未有，毕竟距离台积电的尔透制程水平有着一定的差距，也让英特尔感到有点不能接受。工艺更多欧易app当然这几年英特尔在制程上的信息下代进展也是十分地迅速，接连推出Intel 7、提升Intel 4、首次术Intel 3，采用并且预计将会在今年推出Intel 20A以及Intel 18A等工艺，英特而在最新的尔透欧易app路线图中，英特尔已经添加了Intel 14A和10A工艺。工艺更多在一次技术会议上，信息下代英特尔介绍了Intel 14A的提升部分技术细节。

在一次光学技术会议上，首次术英特尔向行业内人士透露了最新的采用Intel 14A工艺的技术细节。首先是英特性能，根据英特尔的介绍，Intel 14A将会比目前的Intel 18A在晶体管密度上提升20%，而在能效上提升15%。此外英特尔也将计划打造Intel 14A-E工艺，相比较初代Intel 14A在性能上提升5%。

当然想要实现如此先进的工艺，就需要强大的光刻机，之前英特尔订购了ASML最新的高NA光刻机，造价达到了数十亿人民币，而未来英特尔也将使用高NA光刻机从事晶圆的制造。英特尔表示高NA光刻机将会在Intel 14A上正式应用，而Intel 18A主要是作为新的光刻技术的训练与学习。

英特尔还表示已经有很多客户打算基于Intel 18A工艺从事芯片设计与研发，不过Intel最新的14A工艺还没有客户官宣。对于英特尔来说，随着设计与代工部门的分家，未来英特尔代工部门将会为芯片设计企业制造更多的晶圆，自然在制程技术上比主要对手台积电更加出色。

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